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喜訊!開悅半導體國產12吋前道先進工藝(<20nm)涂膠機順利出廠

閱讀次數:1126 編輯:系統管理員 發布時間:2025-02-08 14:12
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2025年2月7日,合肥開悅半導體科技有限公司(以下簡稱“開悅半導體”)自主研發的國產12吋前道先進工藝涂膠機順利啟運出廠。

開悅半導體自主研發的國產12吋前道先進工藝涂膠機作為光刻設備領域不可或缺的關鍵設備,其順利出廠標志著開悅半導體在先進半導體制造設備領域邁出了堅實的一步,開悅的全新國產制造又邁上了一個新臺階。

12吋前道先進工藝(<20nm)涂膠機

可應用領域:SOC

技術特點:12吋疊層式設計、優化的傳送機構、Max WPH 300、穩定性高。

核心技術包括如下所列100%自創,自主設計制造,完全自主可控。

a.高速高穩定度機器手      b.核心工藝單元涂膠槽

c.高溫高均勻度熱板       d.自研設備控制軟件

開悅半導體將始終秉承“為客戶創造價值”的堅定信念,不斷推出更多優質產品,助推產業技術進步?。ê戏书_悅半導體科技有限公司)

 

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